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低溫等離子準(zhǔn)輝光放電表面處理模組

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產(chǎn)品簡介

編號內(nèi)容規(guī)格參數(shù)備注1設(shè)備尺寸1724(W)times;1046(H) times;1140(D)mm2電源AC220V（plusmn;10%）3功率5000VA（MAX）4寬幅200-500mm（可定制）5重量200kg6處理材料的高度小于6mm7使用溫度范圍-10℃～+40℃（不結(jié)冰）8相對濕度90%HR以下（不凝露）9大氣壓力　1.013times;105pa10貯存環(huán)境溫度－25℃~+55℃11相對濕度90%（40℃）大氣12壓力1.013tim···

詳細(xì)介紹

編號	內(nèi)容	規(guī)格參數(shù)	備注
1	設(shè)備尺寸	1724(W)×1046(H) ×1140(D)mm
2	電源	AC220V（±10%）
3	功率	5000VA（MAX）
4	寬幅	200-500mm（可定制）
5	重量	200kg
6	處理材料的高度	小于6mm
7	使用溫度范圍	-10℃～+40℃（不結(jié)冰）
8	相對濕度	<90%HR以下（不凝露）
9	大氣壓力	1.013×105pa
10	貯存環(huán)境溫度	－25℃~+55℃
11	相對濕度	<90%（40℃）大氣
12	壓力	1.013×105pa
特點：大氣壓下輝光放電的視覺特征呈現(xiàn)均勻的霧狀放電，放電的電流電學(xué)特征為單脈沖，放電溫度為室溫。大氣壓輝光放電可以處理各種高分子材料、生物材料、金屬材料、紡織品材料、異型材料。設(shè)備成本低、處理的時間短、可加入各種氣氛，氣氛含量高、功率密度大、處理效率高。可應(yīng)用于表面聚合、表面接枝、金屬滲氮、冶金、表面催化、化學(xué)合成及各種粉、粒、片材料的表面改性和的表面處理。電子和離子的能量可達(dá)10eV以上。材料批處理的效率要高于低氣壓輝光放電10倍以上。主要應(yīng)用于表面清洗、改善復(fù)合材料粘附性、細(xì)胞培養(yǎng)皿,組織培養(yǎng)皿的親水、心臟、生物傳感器的表面處理。