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半導(dǎo)體超純水設(shè)備

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品       牌

廠商性質(zhì)其他

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更新時(shí)間:2024-01-04 08:00:06瀏覽次數(shù):197次

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經(jīng)營模式:其他

商鋪產(chǎn)品:15條

所在地區(qū):

聯(lián)系人:劉先生

產(chǎn)品簡介

半導(dǎo)體超純水設(shè)備

詳細(xì)介紹

半導(dǎo)體超純水設(shè)備

水質(zhì):出水水質(zhì)>15MΩ.cm

用途:半導(dǎo)體、集成電路芯片及封裝、液晶顯示、高精度線路板、光電器件、各種電子器件、微電子工業(yè)、大規(guī)模、超大規(guī)模集成電路需用大量的高純水、超純水清洗半成品、成品。集成電路的集成度越高,對(duì)水質(zhì)的要求也越高。目前我國電子工業(yè)部把電子級(jí)水質(zhì)技術(shù)分為五個(gè)行業(yè)標(biāo)準(zhǔn),分別為18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm,以區(qū)分不同水質(zhì)。 超純水設(shè)備,超純水設(shè)備,硅片超純水設(shè)備
半導(dǎo)體(semiconductor),指常溫下導(dǎo)電性能介于導(dǎo)體與絕緣體之間的材料。半導(dǎo)體材料很多,按化學(xué)成分可分為元素半導(dǎo)體和化合物半導(dǎo)體兩大類。鍺和硅是的元素半導(dǎo)體;化合物半導(dǎo)體包括Ⅲ-Ⅴ族化合物:砷化鎵、磷化鎵等;Ⅱ-Ⅵ族化合物:硫化鎘、硫化鋅等;氧化物:錳、鉻、鐵、銅的氧化物,以及由Ⅲ-Ⅴ族化合物和Ⅱ-Ⅵ族化合物組成的固溶體:鎵鋁砷、鎵砷磷等。除上述晶態(tài)半導(dǎo)體外,還有非晶態(tài)的玻璃半導(dǎo)體、有機(jī)半導(dǎo)體等。

光電材料生產(chǎn)、加工、清洗;液晶顯示屏、離子顯示屏、高品質(zhì)燈管顯像管、微電子工業(yè)、FPC/PCB線路板、電路板、大規(guī)模、超大規(guī)模集成電路需用大量的高純水、超純水清洗半成品、成品。集成電路的集成度越高,對(duì)水質(zhì)的要求也越高,這也對(duì)超純水處理工藝及產(chǎn)品的簡易性、自動(dòng)化程度、生產(chǎn)的連續(xù)性、可持續(xù)性等提出了更加嚴(yán)格的要求。

半導(dǎo)體超純水設(shè)備,超純水設(shè)備,超純水處理設(shè)備,我們公司專業(yè)生產(chǎn)反滲透+EDI超純水設(shè)備,有多年的生產(chǎn)經(jīng)驗(yàn),做過各行業(yè)的水處理設(shè)備,水處理方面我們有豐富的經(jīng)驗(yàn)。

半導(dǎo)體超純水設(shè)備制備工藝:

  1、預(yù)處理系統(tǒng)→反滲透系統(tǒng)→中間水箱→粗混合床→精混合床→純水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→精密過濾器→用水點(diǎn)(≥18MΩ.CM)(傳統(tǒng)工藝)
  2、預(yù)處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純化水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→0.2或0.5μm精密過濾器→用水點(diǎn)(≥18MΩ.CM)(工藝)
  3、預(yù)處理→一級(jí)反滲透→加藥機(jī)(PH調(diào)節(jié))→中間水箱→第二級(jí)反滲透(正電荷反滲膜)→純水箱→純水泵→EDI裝置→紫外線殺菌器→0.2或0.5μm精密過濾器→用水點(diǎn)(≥17MΩ.CM)(工藝)
  4、預(yù)處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純水箱→純水泵→紫外線殺菌器→0.2或0.5μm精密過濾器→用水點(diǎn)(≥15MΩ.CM)(工藝)
  5、預(yù)處理系統(tǒng)→反滲透系統(tǒng)→中間水箱→純水泵→粗混合床→精混合床→紫外線殺菌器→精密過濾器→用水點(diǎn) (≥15MΩ.CM)(傳統(tǒng)工藝)

水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn):


  半導(dǎo)體超純水設(shè)備,超純水設(shè)備,超純水處理設(shè)備出水水質(zhì)符合美國ASTM純水水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)、我國電子工業(yè)電子級(jí)水質(zhì)技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)(18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm)我國電子工業(yè)超純水水質(zhì)試行標(biāo)準(zhǔn)、半導(dǎo)體工業(yè)用純水指標(biāo)、集成電路水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)。

半導(dǎo)體超純水設(shè)備,超純水設(shè)備,超純水處理設(shè)備的應(yīng)用領(lǐng)域:   

電解電容器生產(chǎn)鋁箔及工作件的清洗;  超純水設(shè)備,超純水設(shè)備,硅片超純水設(shè)備
 

電子管生產(chǎn)、顯像管和陰極射線管生產(chǎn)配料用純水;   

黑白顯像管熒光屏生產(chǎn)、玻殼清洗、沉淀、濕潤、洗膜、管頸清洗用純水;  

生產(chǎn)液晶顯示器的屏面需用純水清洗和用純水配液;   

晶體管生產(chǎn)中純水主要用于清洗硅片;  

集成電路生產(chǎn)中高純水清洗硅片;  

半導(dǎo)體材料、器件、印刷電路板和集成電路用純水;   

半導(dǎo)體材料、晶元材料生產(chǎn)、加工、清洗;

高品質(zhì)顯像管、螢光粉生產(chǎn);    

汽車、家電表面拋光處理。

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