深圳市科時(shí)達(dá)電子科技有限公司
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詳細(xì)摘要： NPE-3500 PECVD等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)概述：NANO-MASTER PECVD系統(tǒng)能夠沉積高質(zhì)量的SiO2, Si3N4, 或DLC薄膜到可達(dá)12...
產(chǎn)品型號(hào)：所在地：深圳市更新時(shí)間：2024-02-19 在線留言
詳細(xì)摘要： Plasma Cleaner等離子清洗機(jī)NPC-4000（M）等離子清洗機(jī)概述：NANO-MASTER 等離子刻蝕和清洗系統(tǒng)是專門設(shè)計(jì)用來(lái)滿足晶圓批處理或者單晶...
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詳細(xì)摘要： RIE反應(yīng)離子刻蝕機(jī)NRE-3500（A）全自動(dòng)RIE反應(yīng)離子刻蝕機(jī)概述：獨(dú)立式RIE反應(yīng)離子刻蝕系統(tǒng)，淋浴頭氣體分布裝置以及水冷RF樣品.具有不銹鋼柜子以及1...
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詳細(xì)摘要： PicoMaster XF 500-H 是一款具有超高精度的多功能紫外激光直寫設(shè)備，它具有每毫米超過(guò)1200條線的輸出能力，特別適合用戶在光敏層上自由地創(chuàng)造微結(jié)...
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詳細(xì)摘要： PicoMaster 200無(wú)掩模激光直寫光刻機(jī)●250納米分辨率（375納米激光源）●300納米分辨率（405納米激光源）●4095灰階●業(yè)界實(shí)力的成套全息設(shè)...
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詳細(xì)摘要： Dymax 5000-EC 系列紫外光固化面光源適用于固化光強(qiáng)需求高、固化速度高的紫外光膠粘劑、涂層和油墨。
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詳細(xì)摘要： 品牌：恩科優(yōu)（N&Q）型號(hào)：NXQ800-6產(chǎn)地：美國(guó)恩科優(yōu)光刻機(jī)分為半自動(dòng)和全自動(dòng)兩大系列。其中，N&Q8000系列光刻機(jī)是以自動(dòng)系統(tǒng)為主。該系統(tǒng)*的操作性，...
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詳細(xì)摘要： 品牌：恩科優(yōu)（N&Q）型號(hào)：NXQ400-8產(chǎn)地：美國(guó)恩科優(yōu)光刻機(jī)分為半自動(dòng)和全自動(dòng)兩大系列。其中，N&Q4000系列光刻機(jī)是以半自動(dòng)系統(tǒng)為主。該系統(tǒng)*的操作性...
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詳細(xì)摘要： 真空快速退火爐AS-OneAS-One是一種通用的RTP系統(tǒng)，可用于開發(fā)快速熱退火和快速熱CVD工藝。可以搭配分子泵實(shí)現(xiàn)高真空下熱處理工藝。溫度1500 ℃，升...
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詳細(xì)摘要： P200L半自動(dòng)探針臺(tái)?200毫米半自動(dòng)晶圓探針臺(tái) 。
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詳細(xì)摘要： 這款蝕刻和清潔系統(tǒng)專為滿足當(dāng)今晶圓、光掩模和基板的前沿應(yīng)用的特殊工藝需求而設(shè)計(jì)。
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詳細(xì)摘要： 紫外臭氧清洗工作原理：清洗設(shè)備的核心是低壓石英汞燈，產(chǎn)生254和185nm范圍的紫外線。臭氧和等離子氧氣產(chǎn)生，有機(jī)污染物分子在吸收254nm波長(zhǎng)紫外線后被激發(fā)或...
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詳細(xì)摘要： 原子層沉積（Atomic layer deposition)是一種可以將物質(zhì)以單原子膜形式一層一層的鍍?cè)诨妆砻娴姆椒?。原子層沉積與普通的化學(xué)沉積有相似之處。但...
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詳細(xì)摘要： 適用于3英寸晶圓的劃片劃片機(jī) 100是一款的設(shè)備，設(shè)計(jì)用于劃分精密模具，例如GaAs和硅芯片。劃片機(jī) 100非常靈活，使用劃線和斷裂順序，使成品模具保持清潔，不...
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詳細(xì)摘要： M-HP 200熱板用于烘烤和回火加熱晶圓片或基板。該熱板適用于直徑為8英寸的晶圓片或6英寸 x6英寸的襯底。內(nèi)置模塊可輕松用于濕式工作臺(tái)。工藝參數(shù)（溫度，加熱...
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詳細(xì)摘要： 勻膠顯影機(jī)(英文名：Developing) 產(chǎn)地：美國(guó)一、產(chǎn)品概述：650型勻膠顯影機(jī)適應(yīng)于半導(dǎo)體、化工材料、硅片、晶片、基片、導(dǎo)電玻璃等工藝，制版的表面顯影。
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詳細(xì)摘要： Benchtop Plasma Cleaner小型等離子清洗系統(tǒng)PDC32G和PDC002HPC系列小型等離子清洗系統(tǒng)是臺(tái)式等離子處理設(shè)備領(lǐng)域當(dāng)之無(wú)愧的主導(dǎo)者，...
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詳細(xì)摘要： Benchtop Plasma Cleaner小型等離子清洗系統(tǒng)PDC32G和PDC002HPC系列小型等離子清洗系統(tǒng)是臺(tái)式等離子處理設(shè)備領(lǐng)域當(dāng)之無(wú)愧的者，我們...
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詳細(xì)摘要： 涂是一種廣泛使用的多功能技術(shù)，用于將材料沉積到基材上，從而獲得精確可控的薄膜厚度。該款勻膠旋涂?jī)x價(jià)格實(shí)惠，操作簡(jiǎn)單，結(jié)構(gòu)小巧緊湊，占地空間小，為實(shí)驗(yàn)室提供了理想...
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詳細(xì)摘要： 勻膠機(jī)產(chǎn)品特點(diǎn):1、穩(wěn)定的轉(zhuǎn)速和快 速啟動(dòng)，可保證膠厚度的一 致性和均勻性；2、轉(zhuǎn)速在12000轉(zhuǎn)/分范圍內(nèi)穩(wěn)定，美國(guó)國(guó)家標(biāo)準(zhǔn) 技 術(shù)研究院（NIST）認(rèn) 證過(guò)...
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