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UNIPOL-1202自動(dòng)精密研磨拋光機(jī)

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產(chǎn)品型號(hào)UNIPOL-1202

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北京測(cè)維光電儀器廠

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產(chǎn)品簡(jiǎn)介

產(chǎn)品介紹：UNIPOL-1202自動(dòng)精密研磨拋光機(jī)是用于晶體、陶瓷、金屬、玻璃、巖樣、礦樣、PCB板、紅外光學(xué)材料（如硒化鋅、硫化鋅、硅、鍺等晶體）、耐火材料、復(fù)合材料等材料的研磨拋光制樣，是科學(xué)研究、生產(chǎn)實(shí)驗(yàn)理想的磨拋設(shè)備之一

詳細(xì)介紹

產(chǎn)品介紹：

UNIPOL-1202自動(dòng)精密研磨拋光機(jī)是用于晶體、陶瓷、金屬、玻璃、巖樣、礦樣、PCB板、紅外光學(xué)材料（如硒化鋅、硫化鋅、硅、鍺等晶體）、耐火材料、復(fù)合材料等材料的研磨拋光制樣，是科學(xué)研究、生產(chǎn)實(shí)驗(yàn)理想的磨拋設(shè)備之一。本機(jī)設(shè)置了?300mm的研磨拋光盤和兩個(gè)加工工位，可用于研磨拋光≤?105mm的圓片或?qū)蔷€長(zhǎng)≤105mm的矩形平面。在研磨過(guò)程中兩個(gè)加工工位可以一定的頻率左右擺動(dòng)，同時(shí)推動(dòng)載物塊左右擺動(dòng)，載物塊在進(jìn)行自轉(zhuǎn)的同時(shí)隨著研磨盤公轉(zhuǎn)，使樣品做無(wú)規(guī)則運(yùn)動(dòng)，使研磨后的樣品表面質(zhì)量均勻。研磨拋光機(jī)配備的載物塊是具有高的平面度和平行度的精密圓柱狀金屬塊，使研磨后的樣品表面也具有高的平面度，并且不會(huì)使樣品邊緣倒角，對(duì)邊緣要求高的樣品尤其適合。UNIPOL-1202自動(dòng)精密研磨拋光機(jī)若配置適當(dāng)?shù)母郊℅PC-80A精密磨拋控制儀），可批量生產(chǎn)高質(zhì)量的平面磨拋產(chǎn)品。搭配GPC-80A使用尤其適用于地質(zhì)薄片樣品的研磨與拋光。UNIPOL-1202精密研磨拋光機(jī)可以用研磨盤加磨料的方式研磨樣品，也可以選用拋光盤貼砂紙的方式研磨樣品，砂紙或拋光墊采用磁力吸附的方式裝卡，裝卸方便。

主要特點(diǎn)：

1、超平拋光盤（平面度為每25mm×25mm小于0.0025mm）。
2、超精旋轉(zhuǎn)軸（托盤端跳小于0.01mm）。
3、設(shè)有兩個(gè)加工工位。
4、主軸旋轉(zhuǎn)采用無(wú)級(jí)調(diào)速控制方式，并設(shè)有數(shù)顯表實(shí)時(shí)顯示轉(zhuǎn)數(shù)。
5、配有定時(shí)器，可準(zhǔn)確控制工作時(shí)間（0-300h之間）。
6、可選配自動(dòng)滴料器或循環(huán)泵，使磨拋更加方便快捷。

主要技術(shù)參數(shù)：

產(chǎn)品名稱	UNIPOL-1202自動(dòng)精密研磨拋光機(jī)
產(chǎn)品型號(hào)	UNIPOL-1202
安裝條件	本設(shè)備要求在海拔1000m以下，溫度25℃±15℃，濕度55%Rh±10%Rh下使用。 1、水：設(shè)備配有上水口及下水口，需自行連接自來(lái)水及排水 2、電：AC220V 50Hz，必須有良好接地 3、氣：無(wú) 4、工作臺(tái)：尺寸800mm×600mm×700mm，承重200kg以上 5、通風(fēng)裝置：不需要
主要參數(shù)	1、電源：110V/220V 2、功率：275W 3、主軸轉(zhuǎn)速：起動(dòng)轉(zhuǎn)速~轉(zhuǎn)速10~125rpm 4、工位：2個(gè) 5、支撐臂擺動(dòng)次數(shù)：0-9次/分 6、托盤端跳：0.008mm/250mm 7、磨拋盤：?300mm 8、載物盤：?105mm 9、儀器尺寸：長(zhǎng)550mm×寬700mm×高400mm