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NSC-3000 (A) 全自動磁控濺射系統(tǒng)

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更新時間：2024-02-19 17:54:17瀏覽次數(shù)：153次

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產(chǎn)品簡介

NSC-3000（A）全自動磁控濺射系統(tǒng)概述：帶有水冷或者加熱(可加熱到700度)功能，到6旋轉(zhuǎn)平臺，可支持到3個偏軸平面磁控管。

詳細(xì)介紹

NSC-3000（A）全自動磁控濺射系統(tǒng)概述：帶有水冷或者加熱(可加熱到700度)功能，到6"旋轉(zhuǎn)平臺，可支持到3個偏軸平面磁控管。系統(tǒng)配套渦輪分子泵，極限真空可達(dá)10-7 Torr，15分鐘內(nèi)可以達(dá)到10-6 Torr的真空。通過調(diào)整磁控管與基片之間的距離，可以獲得想要的均勻度和沉積速度。

NSC-3000（A）帶有14"立方形鋁質(zhì)腔體，3個2"的磁控管，DC直流和RF射頻電源。在選配方面，我們提供不銹鋼腔體，260 l/s渦輪分子泵，額外的磁控管和襯底加熱功能。

NSC-3000（A）全自動磁控濺射系統(tǒng)產(chǎn)品特點(diǎn)：