鄭州芳泉EDI純水設(shè)備模塊 超純水設(shè)備 EDI純水設(shè)備生產(chǎn)供應(yīng)
EDI的基本工作原理：
EDI(ELECTRO-DE-IONIZATION)是一種將離子交換技術(shù)、離子交換膜技術(shù)和離子電遷移技術(shù)(電滲析技術(shù))相結(jié)合的純水制造技術(shù)。該技術(shù)利用離子交換能深度脫鹽來克服電滲析極化而脫鹽不,又利用電滲析極化而發(fā)生水電離產(chǎn)生H和OH離子實現(xiàn)樹脂自再生來克服樹脂失效后通過化學藥劑再生的缺陷,是20世紀80年代以來逐漸興起的新技術(shù)。經(jīng)過十幾年的發(fā)展,EDI技術(shù)已經(jīng)在北美及歐洲占據(jù)了相當部分的超純水市場
EDI裝置包括陰/陽離子交換膜、離子交換樹脂、直流電源等設(shè)備。其中陰離子交換膜只允許陰離子透過,不允許陽離子通過,而陽離子交換膜只允許陽離子透過,不允許陰離子通過。離子交換樹脂充夾在陰 陽離子交換膜之間形成單個處理單元,并構(gòu)成淡水室。單元與單元之間用網(wǎng)狀物隔開,形成濃水室。在單元組兩端的直流電源陰 陽電極形成電場。來水水流經(jīng)淡水室,水中的陰 陽離子在電場作用下通過陰 陽離子交換膜被清除,進入濃水室。在離子交換膜之間充填的離子交換樹脂大大地提高了離子被清除的速度。同時,水分子在電場作用下產(chǎn)生氫離子和氫氧根離子,這些離子對離子交換樹脂進行連續(xù)再生,以使離子交換樹脂保持狀態(tài)。EDI裝置將給水分成三股獨立的水流:純水、濃水、和極水。純水(90%-95%)為最終得到水,濃水(5%-10%)可以再循環(huán)處理,極水(1%)排放掉。圖2表示了ＥＤＩ的凈水基本過程。
EDI裝置屬于精處理水系統(tǒng),一般多與反滲透(RO)配合使用,組成預(yù)處理、反滲透、EDI裝置的超純水處理系統(tǒng),取代了傳統(tǒng)水處理工藝的混合離子交換設(shè)備。EDI裝置進水要求為電阻率為0.025-0.5ＭΩ·ｃｍ,反滲透裝置可以滿足要求。EDI裝置可生產(chǎn)電阻率高達18ＭΩ·ｃｍ以上的超純水。
EDI設(shè)備一般以反滲透（RO）純水作為EDI給水。RO純水電阻率一般是40-2μS/cm（25℃)。EDI純水電阻率可以高達18 MΩ.cm(25℃)，但是根據(jù)去離子水用途和系統(tǒng)配置設(shè)置，EDI純水適用于制備電阻率要求在1-18.2MΩ.cm(25℃)的純水。EDI技術(shù)被制藥工業(yè)、微電子工業(yè)、發(fā)電工業(yè)和實驗室所普遍接受。在表面清洗、表面涂裝、電解工業(yè)和化工工業(yè)的應(yīng)用也日趨廣泛。
EDI純水設(shè)備安裝要求：
1、無須專做安裝基礎(chǔ)，地基堅實水平即可
2、入水水壓如低于0.2 Mpa需加裝管道泵
3、使用前需先沖洗管道，避免雜質(zhì)堵塞閥體，污染樹脂
4、不可用加碘鹽、加鈣鹽作再生劑，定期向鹽罐加鹽，確保鹽水飽和濃度（應(yīng)保證溶 解時間不小于六小時）。
EDI純水設(shè)備應(yīng)用范圍：
電子、電鍍、電泳、化工、光學工純水超純水設(shè)備，單晶硅半導體、集成電路芯片、顯像管、計算機硬盤、玻殼、液晶顯示器、光學玻璃清洗、汽車、家用電器、五金、塑料、飾品、建材產(chǎn)品表面涂裝、、電池（蓄電池）生產(chǎn)；陽極、陰極電泳漆超濾回收及系統(tǒng)等；化工反應(yīng)冷卻、電鍍配液、化學藥劑、精細化工制造過程用工藝純水等行業(yè)。
詳情：
QQ:2568841715
